京华(hua)激光7月(yue)22日发布股票交易风险提示公告，公司控股子(zi)公司美国菲涅尔制版科(ke)技公司主要从事光刻机的研发工作，所(suo)研发的光刻机主要用于(yu)光学制版，非用于(yu)半导体领(ling)域，与芯片光刻机在精准度、复杂度等方面(mian)存在较大的差异，如公司光刻机属于(yu)微米级，芯片光刻机属于(yu)纳米级，精度相差1000倍，并且不具备通过技术(shu)改进升级为(wei)芯片光刻机的可能性。